注音 ㄘˋ ㄨㄟˊ ㄇㄧˇ ㄐㄧˋ ㄏㄨㄚˋ

拼音 cì wéi mǐ jì huà

解釋 次微米指小於一微米的半導體製作技術。民國七十九年，政府為建立完整之半導體產業，期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委託工研院電子所主導，並撥列經費以規劃籌建次微米實驗室，做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月，次微米計畫研發工作正式展開，為期五年（西元一九九○至一九九五年）。整體計畫目標如下：(1) 建立一座八吋晶圓，Class 0.1 (0.3微米）的世界一流水準的實驗室，以提供開發次微米製程技術。(2) 在一九九五年以前使中華民國具備：a. 0.7/0.5微米整合製程技術。b. 0.35 微米製程模組技術。(3) 建立超潔淨技術及八吋晶圓量產型技術。(4) 建立中華民國極大型積體電路（ULSI）研究發展能力，並對世界IC研究發展的領域有所貢獻。

次微米指小於一微米的半導體製作技術。民國七十九年，政府為建立完整之半導體產業，期盼能引導產業進入次微米時代。乃由經濟部委託工研院電子所主導，並撥列經費以規劃籌建次微米實驗室，做為驅動我國IC技術跨入次微米新紀元的前哨。七十九年七月，次微米計畫研發工作正式展開，為期五年（西元一九九○至一九九五年）。整體計畫目標如下：(1) 建立一座八吋晶圓，Class 0.1 (0.3微米）的世界一流水準的實驗室，以提供開發次微米製程技術。(2) 在一九九五年以前使中華民國具備：a. 0.7/0.5微米整合製程技術。b. 0.35 微米製程模組技術。(3) 建立超潔淨技術及八吋晶圓量產型技術。(4) 建立中華民國極大型積體電路（ULSI）研究發展能力，並對世界IC研究發展的領域有所貢獻。

1、 這種變異無法避免而且在深亞微米領域，受限於光刻解析度；氧化層腐蝕造成厚度的改變，因化學機械拋光銅金屬線使銅金屬層所造成的不平坦碟型缺陷等種種因素變得更加嚴重。

2、 用這臺光學儀器,我們可以分辨出0.025微米的微波.

3、 試驗旨在分析新型微米純氧氣泡增氧養殖大菱鮃的效果。

4、 微米級球形無機化合物已成為功能材料的重要組成部分。

5、 使用PMMA電子束抗蝕劑，在該系統上獲得0.1微米的線解析度。

6、 該新制程相容了巨集力半導體0.13微米所有的通用和低功耗邏輯製程，易於技術遷移。

7、 電子工業正利益於微米和納米制造技術，將其應用在生物技術感測、光學過濾和燈光控制組件方面。

8、 以前當半導體制造技術在0.25微米以上線寬的時候，用的隔離工藝是矽的局域氧化工藝。

9、 Mphep?的畫素是由二氧化鋯組成，30個微米，一面是由一層1.23微米厚的銀覆蓋。

10、 假設墨水可以反射900毫微米的光，而變黑的皮革在發黑的背景下可以反射910毫微米的光。

11、 鐳射的射擊在大氣中產生毫微米大小的微粒。

12、 菱鎘礦的晶粒微小，一般只有幾個微米，大者幾十微米，常與菱鋅礦、硫鎘礦共生或伴生在一起，呈疏鬆集合體、皮殼或薄膜狀產出。

13、 藉由次微米光柵來使得發光二極體光型趨於均勻的理念，可應用於LCD的背光板上，改善發光二極體光源的均勻性。

14、 光源點尺寸達微米量級的X射線管輻射具有較好的空間相干性，也可用於相襯成像研究。

15、 從333毫微米到656毫微米的波長範圍內，棉鈴蟲和煙青蟲成蟲對於13種單色光的趨光特性極其相似。

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